T/CIE 132-2022 磁控溅射设备薄膜精度测试方

标准编号：T/CIE 132-2022

中文名称：磁控溅射设备薄膜精度测试方

发布部门：中国电子学会

发布日期：2022-08-10

实施日期：2022-08-10

标准状态：现行

标准页数：11页

内容简介：本标准给出了磁控溅射设备薄膜精度评价的术语、测试原理、被测件、测试环境、测试设备、测试程序等。本标准适用于磁控溅射设备沉积薄膜精度的验证。