T/CIET 722-2024 半导体用高纯溅射靶材
标准编号:T/CIET 722-2024
中文名称:半导体用高纯溅射靶材
发布部门:中国国际经济技术合作促进会
发布日期:2024-10-23
实施日期:2024-10-23
标准状态:现行
标准页数:16页
内容简介:本文件规定了半导体用高纯溅射靶材的技术要求、试验方法、检验规则、标识、包装、运输、贮存。本文件适用于半导体用高纯溅射靶材。
温馨提示:
如果点击下载后没有反应或速度过慢等问题,请尝试更换下载地址或稍后再试。
标准编号:T/CIET 722-2024
中文名称:半导体用高纯溅射靶材
发布部门:中国国际经济技术合作促进会
发布日期:2024-10-23
实施日期:2024-10-23
标准状态:现行
标准页数:16页
内容简介:本文件规定了半导体用高纯溅射靶材的技术要求、试验方法、检验规则、标识、包装、运输、贮存。本文件适用于半导体用高纯溅射靶材。
如果点击下载后没有反应或速度过慢等问题,请尝试更换下载地址或稍后再试。